Rhesymau dros osod matiau llawr rwber gwrth-statig mewn ffatrïoedd electroneg
Mae'r ffatri electroneg fel y'i gelwir yn ffatri sy'n cynhyrchu cynnyrch electronig. Mae cynhyrchion ffatri electroneg yn cynnwys electroneg, microelectroneg, cyfathrebu, cyfrifiaduron, offerynnau manwl a diwydiannau cynnyrch electronig eraill. Gan fod cynhyrchion electronig yn fwy sensitif, bydd cronni trydan statig yn effeithio'n ddifrifol ar ansawdd cynhyrchion electronig a gweithrediad arferol gwahanol offerynnau Precision, a bydd trydan statig yn yr amgylchedd cynhyrchu yn effeithio'n ddifrifol ar ansawdd cynnyrch.
Ar gyfer ffatrïoedd electroneg, y ffordd orau o wneud y mwyaf o ansawdd amgylcheddol y gweithdy yw gosod matiau rwber gwrth-statig ar lawr y gweithdy cynhyrchu. Y rhesymau pam mae matiau llawr rwber gwrth-statig yn addas ar gyfer daear y ffatrïoedd electroneg yw:
1, llwch a glân
Ar gyfer ffatrïoedd electroneg, mae glendid yr amgylchedd cynhyrchu yn sicr yn ffactor pwysig iawn. Mae mat llawr rwber gwrth-statig yn fath o ddeunydd coiled rwber. Ar ôl i lawr y gweithdy wedi'i phalmantu, gall ffurfio haen amddiffyn daear trwchus ac sy'n gwrthsefyll traul, a all atal y ddaear yn effeithiol rhag tynnu llwch a chreu amgylchedd gweithdy cynhyrchu glân a di-lwch.
2, gwrth-statig
Mae mat llawr rwber gwrth-statig yn fath o lawr gwrth-statig. Mae'n defnyddio deunydd rwber nitril gwrth-statig. Ar yr un pryd, ychwanegir rhwyll copr dargludol o dan y mat llawr, a all arwain y trydan statig a gynhyrchir yn y gweithdy cynhyrchu i mewn i'r ddaear i atal trydan statig rhag effeithio ar gynhyrchion electronig. Ansawdd.
Gyda datblygiad a chynnydd parhaus Cymdeithas, dylai gwella ansawdd cynhyrchion electronig nid yn unig ddechrau o'r agwedd dechnegol, ond hefyd talu sylw i wella caledwedd. Gall gosod matiau llawr rwber gwrth-statig ar y ddaear leihau'r gyfradd atgyweirio yn effeithiol a cholli cynhyrchion electronig trachywir. Lleihau'r peryglon o gario trydan statig foltedd isel i gynhyrchion electronig manwl gywir yn ystod y broses gynhyrchu.